高純六氟化硫
高純六氟化硫在微電子行業中的應用，主要可作為優良的蝕刻氣體，在光導纖維制造中，可作為單膜光纖隔離層摻添劑，還可作為重要的激光材料用在激光技術中。
產品性
分子量 146.06，常態下是種無色、無臭、無毒、不燃、無腐蝕性的氣態物質，化學穩定性強，近年來高純六氟化硫（99.999％)在電子行業的應用發展迅速，是優良的蝕刻氣體。
應用域
高純六氟化硫在微電子行業中的應用，主要可作為優良的蝕刻氣體，在光導纖維制造中，可作為單膜光纖隔離層摻添劑，還可作為重要的激光材料用在激光技術中。
高純度六氟化硫質量標準：
| 檢驗項目 | 純度 % | 氮氣ppmv | 氧氣ppmv | 四氟化碳ppmv | 氧化碳ppmv | 二氧化碳ppmv | 酸度ppmv | 水分ppmv |
| 指標值 | ≥99.999 | ≤3 | ≤3 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.1 | ≤2 |
